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High-Power impulse magnetron sputtering of WO3 : Study of the influence of the pulse parameters on the deposition rate
Hemberg, A.; Konstantinidis, Stéphanos; Renaux, F. et al.
2010 • Ninth International Conference on Reactive Sputter Deposition 2010 - RSD2010
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https://hdl.handle.net/20.500.12907/23666
 

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Abstract :
[en] High-Power impulse magnetron sputtering of WO3 : Study of the influence of the pulse parameters on the deposition rate
Disciplines :
Chemistry
Physics
Author, co-author :
Hemberg, A.
Konstantinidis, Stéphanos  ;  Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface
Renaux, F.
Bittencourt, Carla  
Dauchot, Jean-Pierre ;  Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface
Snyders, Rony  ;  Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface
Language :
English
Title :
High-Power impulse magnetron sputtering of WO3 : Study of the influence of the pulse parameters on the deposition rate
Publication date :
09 December 2010
Number of pages :
1
Event name :
Ninth International Conference on Reactive Sputter Deposition 2010 - RSD2010
Event place :
Gent, Belgium
Event date :
2010
Research unit :
S882 - Chimie des Interactions Plasma-Surface
Research institute :
R400 - Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux
Available on ORBi UMONS :
since 01 February 2011

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