Article (Périodiques scientifiques)
Positive tone nanoparticle photoresists: New insight on the patterning mechanism
Yu, Mufei; Xu, Hong; Kosma, Vasiliki et al.
2016In Journal of Photopolymer Science and Technology, 29, p. 509-512
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Détails



Disciplines :
Chimie
Auteur, co-auteur :
Yu, Mufei
Xu, Hong
Kosma, Vasiliki
Odent, Jérémy  
Kasahara, Kazuki
Giannelis, E.P.
Ober, Christopher K.
Langue du document :
Anglais
Titre :
Positive tone nanoparticle photoresists: New insight on the patterning mechanism
Date de publication/diffusion :
11 mai 2016
Titre du périodique :
Journal of Photopolymer Science and Technology
ISSN :
0914-9244
eISSN :
1349-6336
Maison d'édition :
Technical Association of Photopolymers, Japon
Volume/Tome :
29
Pagination :
509-512
Peer reviewed :
Peer reviewed vérifié par ORBi
Disponible sur ORBi UMONS :
depuis le 13 décembre 2019

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