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Structural characterization of tungsten oxide thin films deposited by balanced and unbalanced magnetron sputtering
Hemberg, A.; Navio Bernabeu, Cristina; Konstantinidis, Stéphanos et al.
2010 • Journée de l'école Doctorale Thématique CHIM
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https://hdl.handle.net/20.500.12907/35561
 

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Disciplines :
Chemistry
Physics
Author, co-author :
Hemberg, A.
Navio Bernabeu, Cristina
Konstantinidis, Stéphanos  ;  Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface
Renaux, F.
Bittencourt, Carla  ;  Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface
Dauchot, Jean-Pierre ;  Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface
Hecq, Michel 
Snyders, Rony  ;  Université de Mons > Faculté des Sciences > Chimie des Interactions Plasma-Surface
Language :
English
Title :
Structural characterization of tungsten oxide thin films deposited by balanced and unbalanced magnetron sputtering
Publication date :
23 April 2010
Number of pages :
1
Event name :
Journée de l'école Doctorale Thématique CHIM
Event place :
UMONS, Unknown/unspecified
Event date :
2010
Research unit :
S882 - Chimie des Interactions Plasma-Surface
Research institute :
R400 - Institut de Recherche en Science et Ingénierie des Matériaux
Available on ORBi UMONS :
since 01 February 2011

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